Laboratorio de Películas Delgadas

El Laboratorio de Películas Delgadas del Centro de Física Aplicada y Tecnología Avanzada de la UNAM, tiene como principal objetivo desarrollar nuevos materiales en forma de capa delgada con grosores que van desde los 100 nm hasta decenas de micras. Para esto el Laboratorio cuenta con un equipo de tecnología de punta que permite producir películas delgadas de materiales cerámicos a base de óxidos metálicos a partir de precursores líquidos.

El equipo emplea la técnica de Depósito Químico en Fase Vapor e inyecta el precursor mediante pulsos, típicamente 2 por segundo. La dosis de cada pulso es de aproximadamente 6 x 10-3 ml.

Algunos recubrimientos obtenidos son: óxido de cobalto, depositado sobre silicio a 650 °C; dióxido de titanio, depositado sobre silicio a 500-800 °C; diamante, depositado sobre silicio (100) y (111) a 700-900 °C; nanotubos de carbono, depositados sobre cerámica corning/Ni a 900-1000 °C.

En la actualidad se experimenta con películas de cobalto, a fin de utilizarlas como soporte para formar monocapas de grafeno.