Obtención de óxicos metálicos a partir de la inyección pulsada de precursores líquidos usando la técnica de depósito químico en fase vapor

Luis Miguel Apátiga Castro*, Luis Alejandro Ruiz-Ida, José Jesús Espíndola Canuto y Néstor Efrén Méndez Lozano

Centro de Física Aplicada y Tecnología Avanzada, UNAM

Se presenta un panorama general del tipo de recubrimientos que se pueden obtener utilizando la técnica de depósito químico en fase vapor a partir de la inyección pulsada de precursores líquidos metal-orgánicos. El equipo empleado se encuentra en el Laboratorio de Películas Delgadas del CFATA y fue diseñado y construido conjuntamente con la Universidad de Vilnius en Lituania. El equipo trabaja bajo el principio de evaporación instantánea, en donde un precursor líquido metal-orgánico se inyecta por medio de pulsos, típicamente 2 pulsos por segundo, de tal manera que al ser inyectado en una zona llamada zona de evaporación, que se encuentra a 280°C, se evapora. Un gas de arrastre (Ar) transporta el vapor obtenido hacia la cámara de reacción en donde se encuentra el substrato a una temperatura que puede variar entre los 500 y 900°C, dependiendo del precursor. Justo en la superficie del sustrato las moléculas del precursor se rompen en fragmentos más pequeños dentro de los que se encuentran los átomos del material a depositar, mismos que comienzan a nuclear y a crecer hasta formar un recubrimiento continuo. Mediante la incorporación de oxígeno en la cámara de reacción, es posible obtener recubrimientos de óxidos de diversos metales. En este trabajo se presentan algunas imágenes obtenidas por microscopía de barrido electrónico de las superficies de algunos recubrimientos como el óxido de cobalto y dióxido de titanio depositados sobre obleas de silicio mediante esta técnica.

* Luis Miguel Apátiga Castro es Físico por la Universidad Nacional Autónoma de México. Obtuvo su doctorado en Ingeniería de Materiales en la Universidad Autónoma de Querétaro. Su trabajo se ha enfocado a la síntesis de materiales en forma de capa delgada por la técnica de depósito químico en fase vapor. Es Técnico Académico de la UNAM desde 1990, impartió clases a nivel licenciatura en la Facultad de Ciencias de la UNAM durante 13 años y actualmente en el posgrado (PCEyM) desde 2007.




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